设计流程
在实际设计一个日电电子门阵列时,需要有一个设计环境(设计工具)。日电电子支持 OPENCAD™门阵列设计环境,这个环境集成了日电电子的工具和商用工具。 门阵列开发流程大致上可以分为2种方法。
一种方法是使用日电电子所提供的功能块列表(库)中的必要项目,创建一个电路图。这种方法通常叫做电路示意图式的设计。 另一种方法是用高级语言(如 VHDL 或 Verilog HDL)描述所期望的电路结构,然后用逻辑合成工具将其转换成电路图。这种方法通常叫做由上至下式的设计。 为了检查所设计的电路图的功能是否能正常发挥,并了解相关的规格参数,可以使用预期值数据(叫做测试向量)进行模拟。日电电子已经准备了与芯片的实际运行情况相当的结果。这样就能有助于用户预防出现由于电路设计错误而导致芯片返工,可以缩短运转时间和NRE(开发成本)。日电电子还将多种要素技术结合到了一起,如EcCTS、PLL、BIST、扫描路径和边界扫描,从而实现“高性能”和“方便的测试技术”的目标。
- 高性能的设计
高速系统需要对时钟偏差进行严密的控制。时钟树合成(CTS)是将触发器和数字锁相环之间的时钟偏差最小化的技术,可以将芯片之间的时钟偏差最小化。
- 测试用设计
日电电子支持自动生成测试向量,错误覆盖面广,采用扫描测试方法和JTAG(边界扫描)测试方法,符合IEEE 1149.1标准。日电电子还为RAM测试提供内置自测(BIST)。
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